001 光刻设备和校准方法及器件制造方法
002 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法
003 在无掩模微影术系统中产生灰度调整的系统和方法
004 采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法
005 光刻装置和器件制造方法
006 光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件
007 光刻装置
008 光刻装置和器件制造方法
009 基板处理装置及基板交接位置的调整方法
010 曝光装置的曝光方法
011 元件的制备方法、制备的元件、光刻装置以及器件制造方法
012 浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法
013 用于无掩模光刻的投射光学系统
014 光刻装置以及器件制造方法
015 大型薄壳的支撑装置及附属装置
016 光刻装置和器件制作方法
017 光刻装置和器件制造方法
018 使用光束成型获取椭圆及圆化形状之方法
019 微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂
020 利用激光束的识别码的打印方法和装置
021 基于旋涂和键合实现微纳米图案转移的方法
022 基于硅衬底的聚合物光波导器件的制作方法
023 光刻胶修整方法
024 步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统
025 利用纳米球模板制备单元尺寸可控的纳米点阵列的方法
026 改进采用微胶囊的感光成象介质感光度响应的方法
027 一种掩膜制造方法
028 光刻用掩模护层
029 光学光刻方法
030 图像记录材料和平版印刷版
031 含有2，1，4-重氮萘醌磺酰基的光、热、电子束产酸源及其制备方法
032 正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
033 光聚合组合物和图像记录材料
034 碱溶性聚合物及其可聚合组合物
035 光阻帮浦喷洒侦测电路及其系统
036 照明源和掩模优化
037 用带构图的发射器进行发射光刻的方法和装置
038 蚀刻方法及使用蚀刻方法的电路装置的制造方法
039 光刻装置和器件制造方法
040 将表膜框架贴附到调制盘
041 光刻装置和器件制造方法
042 光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法
043 光刻装置和器件制造方法
044 光刻装置及器件制造方法
045 光刻装置，器件制造方法以及由此制造的器件
046 用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物和方法
047 光学接近修正方法
048 图像记录装置
049 含有一种潜酸的聚合物材料
050 正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法
051 形成细微图案的方法
052 三维立体掩膜
053 感光组成物及使用感光组成物制作的平印版
054 光刻抗反射硬掩模合成物及其使用
055 光敏性树脂组合物，光敏性元件，防蚀图形及其制法和叠层基板
056 图像记录材料和平版印刷版
057 带有平衡块消振装置的超精密硅片定位系统
058 衬底曝光方法和光刻投影设备
059 半色调型相移掩膜坯料、半色调型相移掩膜及其制造方法
060 感光性树脂组合物及其用途
061 成像设备
062 缺陷像素补偿方法
063 印刷版材料、印刷版原版、印刷版的制作方法、印刷方法以及印刷版材料的制造方...
064 光敏平版印刷版及其制备方法
065 一种纳米图形以及碳纳米管生物纳米芯片的制备方法
066 图案形成法和光学元件
067 光学元件的形成方法
068 光刻装置和器件制造方法
069 光敏柔性印刷材料及制造报纸用柔性印刷版的方法
070 感光性树脂组合物、使用该组合物的感光性薄膜及层压体
071 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
072 利用截面分析确定聚焦中心
073 形成精细抗蚀图形的方法
074 制作晶圆试片的方法及评估光罩图案间迭对位准的方法
075 干燥薄膜光阻剂
076 预敏化版和平版印刷方法
077 用于平版印刷版的载体和预敏化版
078 利用超分子的自组装和金属化合物着色制备碳纳米管芯片和生物芯片的方法
079 热绝缘的光学装置
080 光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法
081 光刻设备、器件制造方法、及由此制造的器件
082 外缘型态相移光罩的自对准方法
083 在0相与180相区域周围形成边界区域以增强透明电场相移位光罩的方法
084 增强相移位光罩的方法
085 图像形成方法和装置
086 无掩膜光子电子点格栅阵列光刻机
087 衰减相移掩模坯件和光掩模
088 光掩模及其制造方法和使用光掩模的半导体装置制造方法
089 半导体晶圆制造所使用相位移转光罩的图案制作方法与其结构
090 薄片和薄片用框
091 光致抗蚀剂组合物
092 感光性树脂组合物以及使用其的图案形成方法
093 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
094 正型光致抗蚀剂组合物
095 热敏CTP版材用成像组合物、用于该组合物的产酸源及其制备
096 化学放大型正光刻胶组合物及其树脂
097 对准标记的形成方法、构成器件的基板、以及使用该基板的液体排出头
098 蚀刻方法和记录用于控制该方法的程序的计算机记录媒体
099 在晶体内部写入套刻光栅的方法
100 光刻装置和器件制造方法
101 用于去除感光树脂的稀释剂组合物
102 工件构图方法和装置
103 形成光学图像的方法、本方法用的衍射部件、实行所述方法的设备
104 曝光装置检查用掩模、曝光装置检查方法和曝光装置
105 集成电路适用的模块化光学近接校正配置及其方法
106 光掩模及图案形成方法
107 维持微影制程容许度的方法
108 光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物
109 排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
110 光刻胶三维刻蚀过程模拟的动态元胞自动机方法
111 用于给反射镜提供动态保护层的方法和设备
112 衬底的处理方法及用于该方法的药液
113 一种无肼刻蚀液
114 具有高耐热性的光致抗蚀剂组合物
115 优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法
116 生物电子CARL:使用导电层之基材连结
117 偏振膜高分辨力掩模板
118 抗蚀剂聚合物，抗蚀剂组合物和布线图案制作方法
119 普通光源紧贴式纳米光刻光学装置
120 声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统
121 一种用原子光刻技术制作高密度纳米结构的方法
122 用于电子束投影光刻系统的发射器及其制造和操作方法
123 图案的形成
124 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统
125 多光子光敏化系统
126 适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末
127 图案化金属层的方法与金属内连线的制造方法
128 用于光致抗蚀的保护涂层组合物和用其形成光致抗蚀图案的方法
129 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
130 黑色感光性树脂组合物
131 以感光性ITO溶液形成ITO图案的方法
132 控制蚀刻工序的精确度和再现性的方法
133 在用于光电子器件的III-V族化合物中蚀刻光滑侧壁的方法
134 光刻设备和器件制造方法以及测量系统
135 组件、光刻装置和器件制造方法
136 在光刻装置中的反射镜应用顶层，用于光刻装置中的反射镜，包括这种反射镜的光...
137 包含光敏酸发生物质单体的组合物及用其包被的载体及其应用
138 用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法
139 着色感光性树脂组合物
140 光刻装置及器件制造方法
141 控制液体假配发的方法与系统
142 抗蚀图的形成方法、制造母版信息载体的方法和磁记录介质
143 执行基于模型的光刻校正的方法
144 执行基于模型的光邻近校正的方法
145 印刷电路板的制造方法
146 执行基于模型的光学邻近校正的方法
147 扩展光刻模拟积分范围的方法
148 光刻装置和器件制造方法
149 光刻装置和器件制造方法
150 光刻装置
151 印刷电路基板表面胶膜的自动剥除法及其装置
152 具有微影光阻检测图案的光刻及其检测方法
153 测试掩模结构
154 适用于液体浸润式微影中的具抗腐蚀层的接物透镜
155 电光装置用基板、电光装置及其制造方法、和电子设备
156 光刻装置和器件制造方法
157 光刻装置及器件制造方法
158 光刻装置和器件制造方法
159 光刻装置和器件制造方法
160 光学元件、包括这种光学元件的光刻设备及器件制造方法
161 光致抗蚀剂处理方法
162 采用直写纳米刻蚀印刷的固态部件的图案化
163 负性深紫外光刻胶
164 使用第一最小值底部抗反射涂层组合物制备图像的方法
165 负性作用可光成像底部抗反射涂层
166 一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物
167 电光装置、电光装置用基板及制造方法、曝光掩模及电子设备
168 利用象场图产生辅助特征的方法、程序产品和装置
169 光刻装置和器件制造方法
170 印模,方法和设备
171 光致抗蚀剂用显影液
172 光致抗蚀剂用显影液
173 多色调光掩模及其制造方法
174 用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物
175 曝光用掩膜、它的制造方法及曝光方法
176 多层超微压印平版印刷
177 带有给体的光敏剂的用途
178 光致抗蚀剂组合物及形成光致抗蚀剂图案的方法
179 带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系
180 对应于基板伸缩的印刷电路板用曝光装置
181 辐射检测器
182 珀耳帖模块及其制造方法
183 用于相移光刻掩模的光学接近校正
184 碱和表面活性剂,以及它们在用于微型平板印刷的光致抗蚀剂组合物中的用途
185 使用双波长形成自动对准图案的方法
186 包括其中的遮蔽元件的光掩模及相关的方法与系统
187 一种分色页面描述灰度光栅化的方法
188 正型感光性组合物
189 投影光学光刻偏振成像系统
190 聚二甲基硅氧烷微流控芯片复型光固化树脂模具制作方法
191 扫描仪线性测试器
192 屏蔽的避免像差屏蔽布局的制造方法
193 包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物
194 一种制造微机电系统(MEMS)器件结构的方法
195 一种用于打印机的线圆形网点的生成方法
196 一种用于凹印制版的无缝混合网点挂网方法
197 真空负压纳米压印装置
198 真空负压纳米压印方法
199 开环易位共聚物氢化物及其制造方法
200 浸没式光刻系统和制造半导体元件的方法
201 制备基底的方法，测量方法，器件制造方法，光刻装置，计算机程序和基底
202 曝光装置的照度不匀度的测定方法和修正方法
203 用晶体材料制造透镜
204 无铬膜层相位移光罩及其制造方法与制造半导体装置方法
205 多样化产品的黄光制作过程误差校正方法
206 危险图形抽出方法、程序和半导体器件的制造方法 |
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